光ファイバープリフォーム

MCVDプロセスとは、改良された化学気相堆積法を指し、堆積と溶融収縮（ロッド成形）の2つのプロセスステップで構成されています。 成膜とは、あらかじめ用意した高品質石英反応管を水素酸素炎で加熱し、キャリアガスに高純度酸素を用い、高純度SiCl4とGeCl4を一定割合で石英反応管に入れ、反応させてSiO2を発生させる方法です。熱泳動の原理に従って石英反応管の内壁に堆積されるGeO2分子小粒子。 溶融収縮とは、溶着した中空石英ガラス管を塩素ガスを導入して溶融収縮させて中実の光ファイバー母材にすることです。 このプロセスは操作が柔軟で、原材料の流れと堆積層の数を正確に制御でき、光ファイバーの性能の制御に役立つ微細な屈折率プロファイルを備えた光ファイバープリフォームを製造できます。

VADプロセスとは、軸方向蒸着法を指します。 水素酸素炎の加熱条件下で原料を気化させ、炎中で加水分解してSiO2やGeO2粒子を生成するプロセスです。 これらの粒子はアキシャルイニシャルロッドに堆積し、屈折率分布は、堆積温度、速度、ガス流量、注入構造などの要因を制御することによって調整されます。 脱水および焼結後、プリフォームのコア領域の水分子とヒドロキシルラジカルが除去され、透明なプリフォームコアが形成されます。 このプロセスには、堆積速度と効率が高く、不純物が混入しにくく、コアとクラッドの偏心が小さく、経済的であるという利点があります。

OVDプロセスとは、チューブの外側に蒸着する方法を指します。 VADの原理と同様に、水素と酸素の炎の加熱条件下で原料をガス化し、炎の中で加水分解反応を起こして粒子を生成します。 これらの粒子は、最初のロッドの外面に堆積します。 一定のサイズに達し、最初のロッドを取り除いた後、中空プリフォームを脱水および焼結して、透明な固体プリフォームを形成します。 このプロセスの利点は、プロセスが制御しやすく、生産効率が高く、大型の光ファイバー プリフォームの製造に適していることです。

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